微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
申 请 号: 200710022290.X 申 请 日: 2007.05.11 名 称: 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法 公 开 (公告) 号: CN101050338 公开(公告)日: 2007.10.10 主 分 类 号: C09G1/02(2006.01)I 分案原申请号: 分 类 号: C09G1/02(2006.01)I 颁 证 日: 优 先 权: 申请(专利权)人: 江苏海迅实业有限公司 地 址: 226600江苏省海安县开发区鑫来路89号 发 明 (设计)人: 仲路和 国 际 申 请: 国 际 公 布: 进入国家日期: 专利 代理 机构: 扬州市锦江专利事务所 代 理 人: 江 平 摘要 本发明提供一种微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液,其包括磨料 I、磨料II、表面活性剂、pH调节剂以及去离子水;各种组分所占的重量百分比为:磨料I为10%至40%,磨料II为5%至20%,表面活性剂为0.01%至0.6%,pH调节剂为1%至6%,去离子水为余量;前述各组分混合液的pH 值为10至12;可用于微晶玻璃的表面抛光加工中,有效减少微晶玻璃抛光后的表面划伤,降低微晶玻璃抛光后的表面粗糙度,能够满足制造计算机硬盘基板的需要,且抛光速率快,抛光液不腐蚀设备,使用的安全性能高。
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